拼音:fēnzǐshùwàiyán
能十分精确地控制材料生长速率和成分的一种外延方法。在超高真空室中将材料放在喷射炉内加热,使之开华而通过喷射炉上一个小口喷出,形成一束分子流射到衬底表面并淀积其上形成外延层。其特点是:(1)生长速率极慢,为0.1~1纳米/秒,因而可以生长极薄而厚度均匀的外延层,实际上是一种原子级的加工技术;(2)外延生长的温度低,可以避免衬底与外延层间的原子扩散,同时又可避免通常在高温下产生的热缺陷:(3)由于生长在超高真空室中进行,衬底表面经过处理可成为完全清洁的,在外延过程中又可避免沾污,因而能生长出质量极好的外延层
类型:百科
来源:《辞海》(第七版)